气相二氧化硅主要通过化学气相沉积法（CVD）生产，又称气相法、火焰水解法或燃烧法。原料主要为硅的卤化物，如四氯化硅（SiCl₄）、甲基三氯硅烷（CH₃SiCl₃）等。 反应原理是在氢氧焰（温度1000~1800°C）中发生高温水解和氧化反应，生成二氧化硅蒸气，经凝聚、脱酸等工序得到产品。

本产品是一种白色、无毒、无味、无臭，无污染的非金属氧化物。由于其具有粒径小、比表面积大、表面活性高的特性，在材料中表现出卓越的补强、增稠、触变、绝缘、消光、防流挂等性质，因而广泛的应用于农药、橡胶、塑料、涂料、胶粘剂、密封件等高分子工业领域。